實驗室小容量光催化反應器配備水循環(huán)裝置
簡要描述:實驗室小容量光催化反應器配備水循環(huán)裝置,反應暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,帶有觀察窗,采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用;配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置使樣品充分混勻受光;光化學反應儀雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應溫度
- 產(chǎn)品型號:JT-GHX-AC
- 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
- 更新時間:2024-10-07
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實驗室小容量光催化反應器配備水循環(huán)裝置
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光化學反應儀按光源的照射方式可分為非聚集式反應儀和聚集式反應儀。非聚集式反應儀可以采用電光源,也可以采用太陽光源,光源大多垂直反應面進行照射。該反應儀的優(yōu)點是結構簡單、操作方便,缺點是用電光源的反應器運行費用過高,而用太陽光的反應器則反應速率較慢。聚集式反應儀以太陽光作為光源,一般采用拋物槽或拋物面收集器來聚集太陽光并輻射在能透過紫外光的中心管上。聚集式反應儀能夠利用直射和反射的光線,在yi定程度上克服了非聚集式反應儀的缺點。
光化學反應器按催化劑的存在形式又可分為化床反應器和固定床反應器 ! 在流化床反應器中,催化劑粉末直接或負載在顆粒狀載體上后以懸浮態(tài)存在于水溶液中,能隨待處理液發(fā)生翻滾、遷移。在固定床反應器中,催化劑多負載在具有較大連續(xù)表面積的載體上,待處理液流過催化劑表面發(fā)生反應。流化床反應器結構相對簡單,催化劑與污染物接觸面積大,但催化劑難以回收,活性成分損失大,而且在水溶液中易于凝聚,因此很難成為一項實用的污水處理技術。固定床反應器操作簡單,廢水可循環(huán)處理, 實現(xiàn)了催化與分離一體化,避免了催化劑的分離和回收過程。但在高溫燒結過程中催化劑的多孔結構和暴露在外的面積會發(fā)生變化,催化劑與液相的有效接觸面積較小,催化效率不高。目前,載體的選擇和催化劑固定技術已成為固定床反應器研制過程中關鍵的環(huán)節(jié)。
光化學反應器按照反應器的結構和形狀又可分為平板型反應器、淺池型反應器、管式反應器和環(huán)型反應器(或圓筒型反應器)。還有一些其他類型的光催化反應器,如光學纖維束反應器等。
主要特征Principal Character
1.光化學反應儀采用智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化
2.進口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高
3.具有分步定時功能,操作簡便
4.反應暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,帶有觀察窗,采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用
5.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置或大功率磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光
6.光化學反應儀雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應溫度
7.光化學反應儀高溫度保護系統(tǒng),自動斷電功能
8.機箱外部結構設有循環(huán)水進出口,內(nèi)部設有2個專用插座,供燈源和攪拌反應器用
技術參數(shù)Technical Parameter
型號 | JT-GHX-A | JT-GHX-AC | JT-GHX-B | JT-GHX-BC | JT-GHX-D | JT-GHX-DC |
主體部分(含暗箱) | 光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大??;集成式光源控制器,可供氙燈、金鹵燈等多種光源使用 氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié); 金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。 | |||||
小容量反應部分 | 石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做); | / | 石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做) | |||
可同時處理8個樣品(或定做) | 可同時處理8個樣品(或定做) | |||||
八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個樣品的攪拌速度(或定做) | 八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個樣品的攪拌速度(或定做) | |||||
大容量反應部分 | / | 玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。 | 玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。 | |||
大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。 | 大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。 | |||||
控溫裝置 | / | 配備雙層石英冷阱 | / | 配備雙層石英冷阱 | / | 配備雙層石英冷阱 |
冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W | 冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W | 冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W | ||||
控溫范圍:-5°C到100°C(或按照用戶要求) | 控溫范圍:-5°C到100°C(或按照用戶要求) | 控溫范圍:-5°C到100°C(或按照用戶要求) | ||||
冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥 | 冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥 | 冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥 |
實驗室小容量光催化反應器配備水循環(huán)裝置